針對不同使用環(huán)境的 化學過濾器 在半導體生產(chǎn)過程中,不僅微小的顆粒甚至是極其微量的化學污染也會降低產(chǎn)品的合格率。 因此,半導企業(yè)通過安裝高效率的化學過濾器,實現(xiàn)潔凈的生產(chǎn)環(huán)境。 我司生產(chǎn)的,能夠有效地去除半導體工廠中的AMCs物質(zhì)。
AMCs? AMCsAirbome molecular contamination ) 是半導體生產(chǎn)當中各種化學污染物質(zhì)的統(tǒng)稱(有機,堿性,酸性氣體)。 特點: 1.去除效率高達90%以上 2.使用壽命長 3.精良的制造技術,安裝方便 4.一條龍服務(從附著劑加添,產(chǎn)品組裝到安裝) 5.可以按照客戶的要求設計過濾器
適用范圍: 1.半導體,LCD等超精密制造工藝 2.惡臭以及有害氣體容易產(chǎn)生的地方 3.醫(yī)院,博物館公共場所等對空氣環(huán)境要求高的場所
主要產(chǎn)品: 1.● CAFILDEX® PL系列 
規(guī)格 | CAFILDEX PL系列 | 大小 (W*L*D/mm) | 610*610*150T (接受非標定做) | 效率(%) | < 90 | 速度 (m/s) | ~ 2.5 | 差壓(mmAq) | ~ 15.0 | 媒介 | IER, IAC, IA,吸附劑 | 框架 | AL, GI, SUS | 適用對象 | FFU, EFU, MAU, RAU | 目標氣體 | NH3, tAcid, VOCs |
2.● CAFILDEX® TY系列 
規(guī)格 | CAFILDEX TY系列 | 大小 (W*L*D/mm) | 610*610*450T (接受非標定做) | 效率(%) | < 90 | 速度 (m/s) | ~ 2.5 | 差壓(mmAq) | ~ 15.0 | 媒介 | IER, IAC, IA,吸附劑 | 框架 | AL, GI, SUS | 適用對象 | MAU, RAU | 目標氣體 | NH3, tAcid, VOCs |
3.● CAFILDEX® CE 系列 
規(guī)格 | CAFILDEX® CE系列 | 大小 (W*L*D/mm) | 572*1167*55T (接受非標定做) | 效率(%) | < 90 | 速度 (m/s) | ~ 0.45 | 差壓(mmAq) | ~ 3.0 | 媒介 | IER, IAC, IA, 吸附劑 | 框架 | AL, GI, SUS | 適用對象 | FFU, EFU, MAU, RAU | 目標氣體 | NH3, tAcid, VOCs |
4.● CAFILDEX® BT 系列 
規(guī)格 | CAFILDEX BT系列 | 大小 (W*L*D/mm) | 640*640*470 (接受非標定做) | 效率(%) | < 90 | 速度 (m/s) | ~ 0.45 | 差壓(mmAq) | ~ 3.0 | 媒介 | IER, IAC, IA,吸附劑 | 框架 | AL, GI, SUS | 適用對象 | FFU | 目標氣體 | NH3, tAcid, VOCs |
5 ● CAFILDEX® SW系列 
規(guī)格 | CAFILDEX SW系列 | 大小 (W*L*D/mm) | 610*610*200T (接受非標定做) | 效率 (%) | < 90 | 速度 (m/s) | ~ 2.5 | 差壓(mmAq) | ~ 15 | 媒介 | IER, IAC, IA,吸附劑 | 框架 | AL, GI, SUS | 適用對象 | FFU, EFU, MAU, RAU | 目標氣體 | NH3, tAcid, VOCs | |